台積電暫不用High NA EUV計畫 可能因魏哲家密訪ASML而改變

發表於 2024-05-29 00:00 作者： 區塊鏈情報速遞pro

台積電總裁魏哲家本月23日沒有出席在台北舉行的「台積電2024技術論壇」，而是祕密訪問ASML位於荷蘭的總部。（資料照）

吳孟峰／核稿編輯

〔財經頻道／綜合報導〕晶圓代工龍頭廠台積電（2330）早前曾表示，荷蘭半導體設備製造商艾司摩爾（ASML）新品高數值孔徑極紫外光（High NA EUV）曝光機太貴，且在2026年之前沒有太大的經濟意義，認為即便沒有ASML High NA EUV曝光機，公司也能做出很好的先進製程。但現有媒體指出，台積電上述立場，可能因公司總裁魏哲家近日密訪ASML總部後而有所改變。

綜合媒體報導，台積電宿敵英特爾（Intel）將公司的生存，賭在了在使用High NA EUV曝光機的晶圓代工業務領域上。早前韓媒《TheElec》引述消息人士報導指出，ASML截至2025年上半年絕大部分新型High-NA EUV曝光機訂單，全數都已被英特爾買下。

不僅如此，英特爾還計畫在即將推出的intel 18A節點製程上進行參數試驗與技術學習， 然後將其正式納入在intel 14A的生產製造流程當中。

相較之下，台積電先前公開表示，雖喜歡ASML High NA EUV的性能，但不喜歡它的價格，因為成本非常高，並稱其A16製程技術將於2026年底推出，認為以公司現有的EUV能力，仍可支援生產，無需使用ASML的High-NA EUV曝光機，

然而，韓媒《BusinessKorea》近日披露，台積電總裁魏哲家本月23日沒有出席在台北舉行的「台積電2024技術論壇」，而是祕密訪問ASML位於荷蘭的總部。消息一出，引發外界關注。

魏哲家的祕密行程是透過艾司摩爾執行長富凱（Christophe Fouquet）與TRUMPF執行長卡穆勒（Nicola Leibinger-Kammüller）在社群媒體上發文而曝光。富凱稱，「我們向魏總裁介紹我們最新技術與產品，包括High NA EUV曝光機將如何實現未來半導體的微製程技術」。

報導指出，根據台積電的原本計劃，公司預計在A16製程技術後的產品才會考慮採用High NA EUV曝光技術。然而，魏哲家密訪ASML荷蘭總部的動作引發外界議論，有觀點認為，此舉表明台積電有修正計畫的可能性，並且可能是對台積電當前發展軌跡的更廣泛的重新思考。

台積電28日股價收在865元，跌幅0.46%

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