新型ASML曝光機多項技術突破 證明昂貴價格合理

發表於 2024-08-08 00:00 作者： 區塊鏈情報速遞pro

IMEC週三（7日）報告稱，與艾司摩爾（ASML）合作的聯合實驗室，已在電腦晶片製造方面取得多項技術突破。（路透）

吳孟峰／核稿編輯

〔財經頻道／綜合報導〕頂級半導體研發公司比利時校際微電子中心（IMEC）週三（7日）報告稱，與艾司摩爾（ASML）合作的聯合實驗室，已在電腦晶片製造方面取得多項技術突破，該實驗室使用ASML最新市價3.5億歐元晶片曝光機。

IMEC表示，已經在ASML新的「高數值孔徑極紫外光（High-NA EUV）曝光機」下，成功地通過印刷邏輯晶片和記憶體晶片的電路，其尺寸小於、或小於目前商業生產中最好的電路。這一進展表明，領先的晶片製造商將能夠在未來幾年內按計劃使用該工具來生產一代又一代更小、更快的晶片。

IMEC執行長Luc Van den Hove在聲明中表示，高數值孔徑工具將「對繼續邏輯和儲存技術的尺寸擴展非常有幫助」。IMEC指出，晶片製造過程其餘部分所需的許多其他化學品和工具已用於測試，並且適合商業製造。

高數值孔徑工具可以為晶片製造商節省資金，並有助於證明其高昂價格是合理地。

路透週一報導，英特爾正採購前兩款高數值孔徑工具，第三款預計將在今年稍後交付給台積電。其他訂購高數值孔徑工具的晶片製造商還包括三星電子、SK海力士和美光。

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