2奈米良率落後台積電太遠 三星決定撤離美國廠員工

發表於 2024-09-12 00:00 作者： 區塊鏈情報速遞pro

三星先進製程良率未能改善，決定撤離德州泰勒廠員工。（路透）

〔編譯魏國金／台北報導〕韓國媒體Business Korea報導，由於2奈米良率問題未能改善，三星電子決定撤離美國德州泰勒廠人員，此舉顯示三星的先進晶圓代工領域遭遇重挫。

報導說，計畫作為量產4奈米以下先進製程重鎮的德州泰勒廠，因靠近美國主要科技大廠，在策略上旨在保住美國客戶。然而三星持續面臨2奈米製程挑戰，導致與主要勁敵台積電相較，其效能較低、量產能力不足。該廠的量產時間也從2024年底一再推遲至2026。

三星晶圓代工良率，尤其是3奈米以下製程目前低於50%，然而台積電先進製程良率約在60%至70%。該良率落差導致這兩家企業的市佔率擴大至50.8個百分點，其中台積電第2季斬獲全球晶圓市場62.3%，三星僅11.5%。

一名業界人士表示，「三星環繞式閘極（GAA）製程的良率約10%至20%，無法應付訂單與量產」。如此低的良率迫使三星須重新考慮其策略，並撤離泰勒廠人員，僅留下最少工作人力。

三星已簽署取得美國晶片法案補貼的初步協議，但必須滿足晶圓營運的必要條件，才有資格獲得規模9兆韓元的補貼，而目前的挫折使該協議岌岌可危。

三星集團會長李在鎔曾造訪艾司摩爾（ASML）、蔡司（Zeiss）等主要設備供應商，尋求製程與良率的突破，然而儘管這些努力，但尚未取得重大進展，致使重新部署泰勒廠員工的時間表仍不確定。

三星在先進晶圓代工的現狀，突顯其縮小台積電落差的挑戰。隨著全球半導體市場的不斷發展，三星解決這些問題的能力對其未來的競爭力和市場地位至關重要。

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