與ASML較勁 佳能交付第一台奈米壓印晶片製造機

發表於 2024-10-02 00:00 作者: 區塊鏈情報速遞pro

佳能已將第一台奈米壓印曝光機運送到美國德州電子研究所,供其研發實驗室使用。(圖擷取自佳能官網)

吳孟峰/核稿編輯

〔財經頻道/綜合報導〕日本企業佳能(Canon)已將第一台奈米壓印曝光機運送到美國德州電子研究所(Texas Institute for Electronics ),供其研發實驗室使用,此項壓印曝光技術不需要光源,有別於荷蘭晶片製造設備商艾斯摩爾(ASML)生產的極紫外線曝光機(EUV) 。

去年10月,佳能透露,正在將使用奈米壓印曝光技術的半導體製造系統商業化,其第一個實施方案將是一個房間大小的設備,名稱為FPA-1200NZ2C。

現在,佳能已將其中一個奈米壓印曝光機運送給德州電子研究所,這是一個成立於2021年的半導體聯盟,得到德州學奧斯汀分校,以及眾多晶片公司和其他公共部門和學術機構的支持。該機器將用作先進半導體研發和原型生產的一部分。

據佳能稱,與使用更傳統光學方法的競爭對手相比,其奈米壓印製程更便宜,功耗也更少,它不需要光源,而在ASML的最新設備中,光源涉及難以使用的極紫外線波長。

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