ASML確認半導體樂觀前景 未來十年EUV曝光機需求大增

發表於 2024-11-24 00:00 作者： 區塊鏈情報速遞pro

ASML預計未來十年增加極紫外光曝光機EUV的機會將會越來越多。（路透資料照）

吳孟峰／核稿編輯

〔財經頻道／綜合報導〕荷蘭半導體設備大廠艾斯摩爾（ASML）表示，鑑於半導體作為大趨勢的關鍵推動作用，半導體產業的長期前景仍然樂觀。

ASML將人工智慧的出現視為半導體產業的重大機遇，因為它有潛力成為全社會生產力和創新的下一個重要催化劑。再加上幾個關鍵終端市場的成長潛力，凸顯該產業的光明未來。

在2024年投資者日（Investor Day）上，ASML更新長期策略以及全球市場和技術趨勢，確認2030年年收入約440億美元至600億美元的前景。

預計到2030年，這些趨勢將推動全球半導體銷售額超過1兆美元，這意味著2025-2030年期間半導體市場的年增長率約為9%。

ASML也預計未來十年增加極紫外光曝光機EUV的機會將會越來越多。EUV技術持續具有成本效益的可擴展性預計將使客戶能夠將多圖案層進一步轉移到單圖案EUV 0.33 NA 和 EUV 0.55 NA，用於高級邏輯和DRAM。因此，ASML預測2025年至2030年間，先進邏輯和DRAM的EUV曝光機支出將達到兩位數。

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