每台EUV能耗相當小城市供電 未來總數量每年耗電比新加坡還多

發表於 2024-11-01 16:00 作者: 區塊鏈情報速遞pro

每個EUV設備的功率為1400千瓦,足以為一個小城市供電。(示意圖,取自網路)

吳孟峰/核稿編輯

〔財經頻道/綜合報導〕極紫外線曝光機(EUV)對於未來幾年現代製程技術和半導體製造至關重要,然而,每個EUV設備的功率為1400千瓦,足以為一個小城市供電,EUV系統已成為當前影響環境重要電力消耗者的要角,許多人對EUV晶片製造設備也發出警告。

科技研究分析公司TechInsights認為,到2030年,所有配備EUV設備的晶圓廠每年的功耗將超過5萬4000吉瓦 (GW),這比新加坡或希臘等許多國家每年的功耗還要多。

到2030年,配備EUV掃描儀的晶圓廠數量將從目前的31座增加到59座,運行的工具數量將增加一倍左右。因此,所有已安裝的EUV系統每年將消耗6100 GW的電力,這意味著屆時將有數百台機器投入運作。

每年6100吉瓦的電力,這與盧森堡的電力消耗相當。然而,每個先進晶片的製造都需要4000多個步驟,而且晶圓廠中有數百台工具。

EUV設備約佔晶圓廠總用電量的11%,其餘為其他工具、HVAC、設施系統和冷卻設備。因此,所有配備低數值孔徑和高數值孔徑EUV 設備的晶圓廠的功耗預計將增加至5萬4000吉瓦/年。

目前的低數值孔徑EUV掃描儀需要高達1170 kW的功率,而下一代高數值孔徑工具預計每台需要高達1400kW。英特爾、美光、三星、SK海力士,以及台積電等晶圓廠安裝EUV的數量每年都在增加。

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