台積電擴大主導地位 EUV裝置量5年增10倍、佔全球56％

發表於 2024-11-17 00:00 作者： 區塊鏈情報速遞pro

台積電裝置的EUV數量5年增10倍、佔全球56%。（路透）

〔編譯魏國金／台北報導〕南華早報報導，儘管台積電與艾司摩爾（ASML）沒有公佈具體數據，不過科技媒體AnandTech與The Register的報導顯示，2023年台積電擁有的極紫外光機（EUV）機台佔全球安置總數56%，從2020年的50%上升，反映台積電進一步擴大其在半導體的主導地位。

報導指出，每一台低數值孔徑（NA）極紫外光機造價超過超過1億美元（32.5億台幣），是史上最昂貴的半導體製造設備之一。這引發一個關鍵問題：台積電究竟擁有多少部先進的EUV機台？尤其考量到該晶圓代工巨擘對下一代高數值孔徑（high-NA）EUV設備採取審慎態度之時。

台積電回應The Register相關詢問說，台積電在考慮將high-NA EUV整合進量產製程之前，將仔細評估先進的電晶體結構、新工具等新技術創新，在成熟性、成本、對客戶的潛在利益等方面的表現。

台積電聲明強調，相較於2019年，在其運作中的EUV機台數量至2023年已增長10倍，佔全球EUV裝置量56%。

報導說，業界消息來源推估，2022年台積電採購84部EUV機台，2023年超過100部機台，因此台積電在2019年成功推出全球第一個EUV商用曝光製程產品時，可能擁有10部EUV機台，專門用於7奈米強校版（N7+）製程技術。

台積電的N7+是第一個採用EVU的製程技術，後續的N5、N3製程也採用EUV技術。除此之外，三星電子的7LPP、5奈米與3奈米GAA製程也採用EUV技術，它同時也將EUV納入其DRAM的生產。

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